Установки плазменной очистки
Установки плазменной очистки предназначены для очистки самых разных изделий. Такой подход крайне эффективен при работе со следующими материалами:
- Полупроводниковые;
- Кварцевые;
- Стеклянные;
- Диэлектрические.
В методе чаще всего применяют плазму с ионами кислорода или аргона. Эти элементы глубоко проникают в материал и помогают удалить даже самые сложные органические загрязнения. Установки активно используются в небольших производствах и исследовательских лабораториях. С их помощью можно добиться высоких показателей адгезии и обеспечить надежную спайку двух материалов в процессе напыления.
Специфические особенности установок плазменной очистки
К основным особенностям таких приборов относят:
- Сравнительно небольшие размеры, позволяющие разместить установку в любом удобном месте;
- Отсутствие необходимости длительной предварительной настройки;
- Внушительный выбор комплектующих, значительно расширяющих возможности оборудования;
- Универсальность;
- Простота эксплуатации;
- Неприхотливость.
Современные приборы без проблем могут функционировать на протяжении долгого времени практически без перерывов. Они прекрасно справляются со своими задачами и обеспечивают высокое качество очистки.